柵線投影形貌測(cè)量中理想正弦條紋的產(chǎn)生.docx


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柵線投影形貌測(cè)量中理想正弦條紋的產(chǎn)生,1.1萬字36頁 原創(chuàng)作品,通過查重系統(tǒng)摘要物體表面三維形貌測(cè)量技術(shù)是當(dāng)今熱門的研究課題,值得深入研究。它在自動(dòng)化加工、產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)、實(shí)物仿形、生物醫(yī)學(xué)、藝術(shù)雕塑等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用前景。投影柵線法三維形貌測(cè)量是物體表面三維形貌測(cè)量的一種,它具有面場(chǎng)數(shù)據(jù)測(cè)量、實(shí)時(shí)性強(qiáng)、測(cè)量范圍廣的...


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柵線投影形貌測(cè)量中理想正弦條紋的產(chǎn)生
1.1萬字 36頁 原創(chuàng)作品,通過查重系統(tǒng)
摘 要
物體表面三維形貌測(cè)量技術(shù)是當(dāng)今熱門的研究課題,值得深入研究。它在自動(dòng)化加工、產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)、實(shí)物仿形、生物醫(yī)學(xué)、藝術(shù)雕塑等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用前景。投影柵線法三維形貌測(cè)量是物體表面三維形貌測(cè)量的一種,它具有面場(chǎng)數(shù)據(jù)測(cè)量、實(shí)時(shí)性強(qiáng)、測(cè)量范圍廣的特點(diǎn),更是三維形貌測(cè)量研究中的熱點(diǎn)。
投影系統(tǒng)將計(jì)算機(jī)生成的正弦條紋投至試件表面,由相機(jī)記錄試件表面條紋圖,并保存至計(jì)算機(jī)中由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)字圖像處理,然后用相移算法處理得到反映試件表面三維形貌的相位,最后通過相位與試件真實(shí)高度之間的映射關(guān)系即標(biāo)定,可得到試件真實(shí)三維形貌分布。在此過程中,首先需要使得投影至試件表面條紋灰度分布呈正弦狀,但是由于投影儀存在非線性輸入——輸出特性,在計(jì)算機(jī)中生成的正弦條紋在投影到試件表面時(shí),不再呈正弦分布,所以需要采用多項(xiàng)式擬合求得二者對(duì)應(yīng)關(guān)系。本論文課題擬對(duì)柵線投影系統(tǒng)中如何得到理想的呈正弦分布的條紋進(jìn)行研究并用柵線投影三維形貌測(cè)試實(shí)驗(yàn)來驗(yàn)證上述擬合公式是否能夠達(dá)到理想的正弦條紋效果。本文介紹了探求擬合參數(shù)以及采用四步相移法進(jìn)行三維形貌測(cè)試實(shí)驗(yàn)來驗(yàn)證能夠產(chǎn)生理想正弦條紋的過程。
關(guān)鍵詞:光學(xué)測(cè)量;柵線投影;擬合參數(shù);相位分析
1.1萬字 36頁 原創(chuàng)作品,通過查重系統(tǒng)
摘 要
物體表面三維形貌測(cè)量技術(shù)是當(dāng)今熱門的研究課題,值得深入研究。它在自動(dòng)化加工、產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)、實(shí)物仿形、生物醫(yī)學(xué)、藝術(shù)雕塑等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用前景。投影柵線法三維形貌測(cè)量是物體表面三維形貌測(cè)量的一種,它具有面場(chǎng)數(shù)據(jù)測(cè)量、實(shí)時(shí)性強(qiáng)、測(cè)量范圍廣的特點(diǎn),更是三維形貌測(cè)量研究中的熱點(diǎn)。
投影系統(tǒng)將計(jì)算機(jī)生成的正弦條紋投至試件表面,由相機(jī)記錄試件表面條紋圖,并保存至計(jì)算機(jī)中由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)字圖像處理,然后用相移算法處理得到反映試件表面三維形貌的相位,最后通過相位與試件真實(shí)高度之間的映射關(guān)系即標(biāo)定,可得到試件真實(shí)三維形貌分布。在此過程中,首先需要使得投影至試件表面條紋灰度分布呈正弦狀,但是由于投影儀存在非線性輸入——輸出特性,在計(jì)算機(jī)中生成的正弦條紋在投影到試件表面時(shí),不再呈正弦分布,所以需要采用多項(xiàng)式擬合求得二者對(duì)應(yīng)關(guān)系。本論文課題擬對(duì)柵線投影系統(tǒng)中如何得到理想的呈正弦分布的條紋進(jìn)行研究并用柵線投影三維形貌測(cè)試實(shí)驗(yàn)來驗(yàn)證上述擬合公式是否能夠達(dá)到理想的正弦條紋效果。本文介紹了探求擬合參數(shù)以及采用四步相移法進(jìn)行三維形貌測(cè)試實(shí)驗(yàn)來驗(yàn)證能夠產(chǎn)生理想正弦條紋的過程。
關(guān)鍵詞:光學(xué)測(cè)量;柵線投影;擬合參數(shù);相位分析
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